Представители Технологического института города Массачусетс сообщают об открытии нового инновационного способа производства сложных структур, предназначенных для микроэлектронных устройств.
Способ заключается в организации взаимодействия полимерных материалов, в результате которого образуются проводниковые линии и узловые соединения.
Для организации пространственных структур на кремниевой подложке с помощью электронно-лучевой литографии формируется массив столбиков. Далее подложка заполняется сополимерами, которые без дополнительных воздействий образуют цилиндрические структуры, которые могут служить проводниками.
Длина цилиндров, их изгибы и угловые элементы задаются конфигурацией столбиков подложки. При создании многоуровневых структур параметры каждого уровня будут задаваться параметрами столбиков. Данный способ дает возможность формирования проводников значительно меньшей толщины, нежели позволяет метод фотолитографии.
На текущий момент реализована возможность формирования двухслойных схем, но, по заявлению исследователей, количество слоев можно будет увеличить. Важной особенность нового способа является его совместимость оборудованием по производству полупроводников, которое используется в настоящее время. Изготовление простых электронных устройств планируется в начале 2013 года.